金属薄膜的厚度（金属薄膜厚度与电阻的关系）

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1、PVD处理的温度为500℃，涂层厚度为2~5μm，比CVD薄。三，从运用看区别 CVD法适合硬质合金。PVD法适用于高速钢刀具。

2、PVD抛光镀膜技术（物理气相沉积）是相对于CVD（化学气相沉积）来说的。它是一种蒸发真空镀膜技术，由蒸发、运输、反应、沉积四个物理反应完成材料镀膜的过程，可以说是一种替代电镀的过程。

3、PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。

4、经济，可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。使用一块软布和玻璃清洁剂即可清洁干净PVD膜层。对环境无害，避免化学中毒和VOC的散发。具生物兼容性。

薄膜是用毫米（mm）作为标准厚度单位，但在实际使用中都用丝（S），即1丝=100mm，也可用微米作为厚度单位，10微米=1丝=0.01毫米。

v70金属膜是2mil。威固V70金属层主要是氧化铟、金、银，V70厚度是2mil，V70是单基材金属膜，直接接触玻璃，易氧化，在装贴后还需上一层密封胶，否则膜层内的金属层就会氧化影响视线，而且不具备防爆性能。

对于不同的金属这个厚度是不同的。原子是会吸收光子的，但是当面原子密度不够大的时候，总是会有光子漏过去的，不同原子对光的吸收强度不同，也就是说不同金属对光的吸收程度不同，所以不同金属要透光的厚度也不同。

钢化玻璃的标准厚度为2毫米，允许偏差为0.2毫米。玻璃本身是3/4/5/6/8/12mm，然后中间镂空层是6/9/12mm。那么就可以做出3平米的钢化玻璃。

1、一般在0.3-0.6就差不多了，膜的厚度和溅射产额，沉积时间，靶于基材（衬底）的距离（60mm-120mm左右）的关系很紧密一般在磁控溅射中，只要靶能正常起辉真空度越高越好。（因为靶电压很高，溅射产额就高。

2、沉积速率是指从靶材上溅射出来的材料，在单位时间内沉积到基片上的膜层厚度，该速率与溅射率成正比。有下列关系式：qt=CIh 式中：qt—表示沉积速率；C—表征溅射装置特性的常数；I—表示离子流；h—表示溅射速率。

3、但是需要固定工艺下的长时间计算可以确定镀膜时间的。（但是这个时间一般按照溅射完成后膜层的厚度测量来的更加准确）在金属靶材溅射过程中，如果想达到氧化亚锌的理想值，比较难，需要精确控制溅射产额和氧气流量。

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