薄膜硅真空计（薄膜硅真空计上两个孔是什么）

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真空镀膜原理：物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

说来话长，简单点的话就是：阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片。

叫真空镀膜机。真空镀膜原理是：主要主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。

磁控溅射原理电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。

孔径分布（pore size distribution）是指材料中存在的各级孔径按数量或体积计算的百分率。

是测定部分中孔和大孔孔径分布的方法。基本原理是，汞对一般固体不润湿，欲使汞进入孔需施加外压，外压越大，汞能进入的孔半径越小。测量不同外压下进入孔中汞的量即可知相应孔大小的孔体积。

所谓的孔径分布是指不同孔径的孔容积随孔径尺寸的变化率。通常根据孔平均半径的大小将孔分为三类：孔径≤2nm为微孔，孔径在 2-50nm范围为中孔，孔径≥50nm为大孔。大孔一般采用压汞法测定，中孔和微孔采用气体吸附法测定。

孔径是指多孔固体中孔道的形状和大小。孔其实是极不规则的，通常把它视作圆形而以其半径来表示孔的大小。孔径分布常与吸附剂的吸附能力和催化剂的活性有关。

1、如果只是就膜厚仪测试来讲的话，真空镀膜和光学镀膜的区别就是：真空镀膜：一般TiN，CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。

2、光学镀膜属于真空镀膜。怎么说区别，真空镀膜有，蒸发镀，光学镀，离子镀，溅射镀，射频镀。每个还可以细分，在写要出书。

3、光学镀是真空电镀的一种，是在真空环境中，激发镀层材料形成等离子体而沉积到产品表面；而电泳工艺类似如水电镀的，只是沉积上去的是涂料。

4、按照用途来分：光学膜例如相机镜片等，装饰膜例如某些玻璃上面特殊的颜色，保护膜例如手机面板表面，还有特殊用途的膜，比如离型膜是注塑模具上的。

5、光学镀膜耐磨损膜(硬膜) 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。

1、常用计量器具有：千分表、百分表、杠杆表、内径量表、外径千分尺、内径千分尺、游标卡尺、高度尺、刀口尺、水平仪、大理石检验平板、压力表、交直流电流电压表、功率表、电阻表、温度计等。

2、量具：即用固定形式复现量值的计量器具，如量块、破码、标准电池、标准电阻、竹木直尺，线纹米尺等。

3、计量器具是指能用以直接或间接测出被测对象量值的装置、仪器仪表、量具和用于统一量值的标准物质。如果按结构特点对计量器具进行分类，计量器具一般可分为量具、计量仪器仪表和计量装置。

4、本目录所列的计量器具为《中华人民共和国强制检定的工作计量器具目录》的明细项目。本目录内项目，类别：贸易结算安全防护医疗卫生环境监测的均实行强制检定。

1、医疗和生命科学：硅在医疗和生命科学领域有广泛的应用。硅材料被用于制造医疗器械、人工关节、生物传感器、生物医学成像等。化妆品和个人护理产品：硅在化妆品和个人护理产品中被广泛使用。

2、硅的化学性质比较活泼，在高温下能与氧气等多种元素化合，不溶于水、硝酸和盐酸，溶于氢氟酸和碱液，用于造制合金如硅铁、硅钢等，单晶硅是一种重要的半导体材料，用于制造大功率晶体管、整流器、太阳能电池等。

3、金属硅是工业提纯的单质硅，主要用于生产有机硅、制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等。生产硅橡胶、硅树脂、硅油等有机硅。

4、硅可用来制作金属陶瓷复合材料，这种材料继承了金属和陶瓷的各自优点，同时还弥补了两者不足，具有耐高温、富韧性、可切割等优点。

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